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39寸透明EMI/RFI电磁屛蔽膜

电磁波屏蔽膜也叫EMI(ElectroMagnetic Interference-电磁干扰)保护膜或吸波材料。

目前用作 RFI(RF Interference-射频干扰)屏蔽的材料范围包括导电金属氧化物、金属网和纳米线等材料。

我司EMI/RFI屏蔽膜主要是铜材蚀刻加工后,通过压合于膜材上,主要是对产品内部线路起到减弱或消除电磁干扰/射频干扰的作用。

具有优良的电磁波屏蔽性能的柔性、薄、轻量的电磁波屏蔽膜,用于防止周围环境中的医疗器械、船舶、飞机等精密设备发生故障。

EMI/RFI屏蔽膜提供有效的电磁屏蔽和最佳的透明度(可见光透射率 >80%)。

EMI/RFI屏蔽膜上包含的铜网为 ITO 屏蔽提供了很好的替代品(更好的电阻和导电性)。事实上,ITO 技术是基于具有非常薄层的支撑金属化。该技术提供较低的电导率、较低的透明度和较高的氧化风险。这就是为什么我们更愿意提出这种基于 Cu Mesh 原理的 EMI 屏蔽膜。

优异的性能

   技术参数


测试项目

单位

产品特性

检验方法

备注

产品型号

/

CNE******EMI-V*.*

/

/

迭构

上保护层

µm

50

千分尺

PE

铜网格层

µm

2

千分尺

表面黑化

基材

µm

100

千分尺

PET 

下保护层

µm

50

千分尺

PET

网格图案

/

45°斜正方形

/

/

线距

µm

200

二次元

2X

线宽

µm

9±3

二次元

2X

透过率

%

>80%

分光测色仪

550nm

面电阻

Ω/□

0.2~0.4Ω

四点探头

/

铜与基材附着力

/

5B

百格刀测试

/

可靠性

高温高湿电阻变化率

%

≤10

恒温恒湿实验箱

温度85℃,湿度85℃,500H

高温高湿透过率变化率

%≤10
高温高湿电阻变化率%≤10紫外老化箱

光源UVA-340,

辐照强度:0.89W/m2@320nm,

黑标温度:(70±2)℃,

辐照模式:全时间段照射

高温高湿电阻变化率

%

≤10

   电性测试图示

   迭构方式

产品由上保护膜PE+ 黑化层 + 铜网格层 + 基材PET+ 下保护层PET)组合而成。

   应用范围

◆ 医院核磁共振、肌电图和脑电图设备的屏蔽

◆ 工业开发实验室的屏蔽;

◆ 计算机的数据安全;

◆ 行政房间的屏蔽防止通过麦克风或建筑物外的电子窃听器进行间谍活动

◆ 屏蔽杂散电磁辐射;

◆ 消费类电子产品(智能手机、平板电脑、触控面板、数码相机、液晶电视等)的电子信号屏蔽。

   优良的物理特性

高低温测试

可达到-85℃到+85℃,极点环境下可正常使用;

环境测试:-80℃、100℃(沸水)、-235℃情况下测试产品功能正常。


循环弯曲测试

弯曲度数:从0~ 90~180度(循环弯曲),弯曲直径:4mm,8mm。


循环折叠测试

当弯曲直径为≦4mm时,弯曲角度从20度到180度循环折叠下能正常使用。


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